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関連特許

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        担当    中塚 正大   nakatsuka.oel@optolab.co.jp
              
今崎 一夫   imasaki.oel@optolab.co.jp

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公開番号 特許名称 概要
2003−34883 SBS反射鏡及びそれを用いた高繰返しパルスレーザシステム
2003−332665 パルスレーザ装置
2003−121416 微量成分の分子濃度の測定方法及び装置
2002-148239 ハロゲン化分子の濃度の測定方法及び測定装置
2001−203410 ジグザグスラブ固体レーザ増幅器、及びジグザグスラブ固体レーザの熱レンズ効果補償方法
2001−127374 ロッドレンズ、ロッドレンズ用ホルダー及びロッドレンズ付き LDアレイ
H11−97782 固体レーザ装置
H10−200184 固体レーザ装置
H10−41565 固体レーザー増幅器
H9−312430 ジグザグスラブ固体レーザ及び増幅器
     
H6−296051 能動波長板
H6−147986 複屈折率分布測定方法
H5−66198 ハロゲンイオン濃度の測定法
2004−55819 レーザ光集光器、及びレーザ光集光方法
平8−203697 電磁石型円偏光装置
平5−273395 発光装置
平5−258899 ウィグラー磁石
2004−37364 極短波長の光を発生させるターゲット、そのターゲットを用いた光発生方法及びそのための装置
2003−344883 SBS反射鏡及びそれを用いた高繰返しパルスレーザシステム
2003−332665 パルスレーザ装置
     
2003−283028 赤外発光体および光増幅媒体
2003−255414 誘導ブリルアン散乱位相共役鏡及びその製造方法
2003−240715 マルチパスレーザ散乱測定方法
2003−229621 固体レーザ材料及びその製造方法とレーザ発生装置
2002−252397 光ファイバ及び光増幅器
平11−149098 高出力レーザパルス位相補償装置
平11−29334 ビスマスドープ石英ガラス、その製造方法、そのガラスを用いた光ファイバ、および光増幅器
平11−17268 半導体レーザーアレイ装置
平10−130087 水溶性結晶の高速育成方法
平10−39267 液晶偏光制御素子
     
平9−312430 ジグザグスラブ固体レーザ及び増幅器
平9−86952 機能性シリカガラス
平9−86951 機能性元素含有組成物の製造方法
平9−15448 光ファイバコネクタ及びその製造方法
平8−20077 光学面の形成方法
平7−111356 周波数上方変換固体レーザ装置
平5−226756 半導体レーザの発振波長安定化装置
平5−226755 半導体レーザの制御方法及びその装置
平5−102567 固体レーザー発振システム
平5−102566 固体レーザー増幅器
     
平5−102565 レーザーシステム
平5−82871 レーザーダイオード励起固体レーザー増幅器
平5−82870 半導体レーザー励起デイスク形固体レーザー増幅器の励起方法
平5−82868 固体レーザー発振器の発振器長さ調整法
2004−37364 極短波長の光を発生させるターゲット、そのターゲットを用いた光発生方法及びそのための装置
2003−246971 箔状ないし膜状物体の接着方法及びその方法によって得られた衝撃波速度計測用ターゲット
2002−265625 真球状のポリアミド酸球と、ポリイミド球、及びこれらの製造方法
2003−344883 SBS反射鏡及びそれを用いた高繰返しパルスレーザシステム
2003−332665 パルスレーザ装置
2003−298176 傾斜型太陽光励起半導体を用いたレーザ発振装置
     
2001−203410 ジグザグスラブ固体レーザ増幅器、及びジグザグスラブ固体レーザの熱レンズ効果補償方法
2001−127374 ロッドレンズ、ロッドレンズ用ホルダー及びロッドレンズ付きLDアレイ
平11−97782 固体レーザ装置
平10−200184 固体レーザ装置
平10−41565 固体レーザ増幅器
平9−312430 ジグザグスラブ固体レーザ及び増幅器
平8−139479 ヒートシンク
平8−139478 ヒートシンク
平7−111356 周波数上方変換固体レーザ装置
平6−296051 能動波長板
     
平6−147986 複屈折分布測定方法
平6−94990 半導体レーザ用集光光学系
平5−226756 半導体レーザの発振波長安定化装置
平5−226755 半導体レーザの制御方法及びその装置
平5−102567 固体レーザー発振システム
平5−102566 固体レーザー増幅器
平5−102565 レーザーシステム
平5−82871 レーザーダイオード励起固体レーザー増幅器
平5−82870 半導体レーザー励起デイスク形固体レーザー増幅器の励起方法
平5−82868 固体レーザー発振器の発振器長さ調整法
     
2004−55819 レーザ光集光器、及びレーザ光集光方法
2000−348895 パルス状高輝度硬X線またはγ線の発生方法および装置
2000−314800 パルス状高輝度γ線発生方法および装置
平11−150293 発光ダイオード及びその製造方法
平11−149098 高出力レーザパルス位相補償装置
平5−343740 りん化ひ化ガリウムエピタキシャルウエハ
2004−176081 原子層堆積法による光学多層膜の製造方法
2004−101985 光コネクター及び一体型光コネクター
2003−287604 光学レンズの製造方法および光ファイバコネクタの製造方法
2003−287602 反射防止膜の形成方法、および反射防止膜を有する光学部品の製造方法、並びに反射防止膜を有する光学部品
     
2003−86872 低圧軸方向励起方式F2レーザ装置
2002−286902 レーザー装置における光学素子及びその表面処理方法
2002−273742 レンズ面の補正方法
2002−205184 レーザ加工装置及び方法
2002−187139 レンズ面の形成方法および形成装置
2002−90663 光ファイバ交換方法及び装置
2002−76489 フッ素レーザ装置及びこれを用いた露光装置
2002−23015 光ファイバコネクタの製造方法
2001−239390 レーザ加工装置及び方法とこれを用いて加工された光学素子
2001−109027 波長変換用非線形光学結晶の着色による透過率低下防止方法
     
平11−314184 光学素子加工装置
平11−125702 マイクロレンズアレイ形成方法
平11−68199 同軸ガスレーザ励起方法および同軸ガスレーザ装置
平11−17268 半導体レーザーアレイ装置
平10−323790 レーザ加工装置
平10−323773 レーザアシストによる加工装置
平10−303487 同軸ガスレーザ励起方法および同軸ガスレーザ装置
平9−83042 パルスガスレーザ管
平9−15448 光ファイバコネクタ及びその製造方法
平8−20077 光学面の形成方法
     
平6−326397 パルスガスレーザ装置の出力安定化方法及びそれを用いたパルスガスレーザ装置
平5−82879 ガスレ−ザ装置
WO97/33352 レンズ、半導体レーザ素子、これらの加工装置、半導体レーザ素子の製造方法、光学素子、光学素子加工装置および光学素子加工方法
2004−55819 レーザ光集光器、及びレーザ光集光方法
2000−348895 パルス状高輝度硬X線またはγ線の発生方法および装置
2000−314800 パルス状高輝度γ線発生方法および装置
平8−271697 X線顕微鏡用光学装置
2004−101219 レーザーを利用した放射線発生装置
2001−68296 レーザー励起X線発生装置及び方法
2004−191190 核変換処理による高温発生方法及び装置
     
2003−298176 傾斜型太陽光励起半導体を用いたレーザ発振装置
2003−151800 超高輝度放射光発生方法及び装置
2003−134700 太陽光励起レーザーを用いたエネルギー供給ネットワーク
2003−57392 高エネルギ発生方法及び装置
2003−12569 メタン又はメタノール生成システム
2002−255501 水素・電気エネルギ発生システム
2002−33537 太陽光励起固体レーザ発生装置及びこれを用いた太陽光エネルギの輸送システム
平10−253785 核融合反応発生方法及び装置
平9−63797 放射光発生方法及び装置
平9−63468 光電子発生方法及び装置
     
平8−203697 電磁石型円偏光装置
平8−64398 周期磁場発生装置
平7−110400 高輝度X線又はγ線の発生方法及び装置
平7−58421 自由電子レーザ発生装置およびその方法
平7−22715 自由電子レーザー発振方法及び装置
平7−15895 レーザー光によるエネルギ輸送システム
平7−14503 レーザー熱陰極構造体
平6−21586 自由電子レーザ発生装置
平6−21585 自由電子レーザ発生方法
平5−258899 ウィグラー磁石
     
平5−160525 自由電子レーザーの発振方法
平5−48216 自由電子レーザー光の高調波発生方法
特開2011-180113  (P2011-180113A) ダイアモンド状カーボン薄膜の膜厚と屈折率の計測
                
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